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如何不破坏样品,分析晶体结构与薄膜特性
发布时间:2025.03.08
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通常在晶圆制程/LED制程研发阶段时,必须确认样品的晶体结构是否有堆栈整齐、观测层与层之间的厚度、密度等数据,透过这些数据确定晶体有没有乖乖地堆栈排列好。若没有排列好,将影响到结构的强度、电性与透光度,进而影响产品质量。


而检测晶体结构与薄膜特性,一般大家常使用的是TEM(穿透式电子显微镜),然而TEM主要是运用在微观(奈米/微米)等级以下的结构检测,样品规格需要小于0.1mm(公厘),因此必须破坏样品,切出欲观察的那一层才能进行分析。若要针对大于0.1mm(公厘)的巨观范围确认晶体结构堆栈情形与薄膜特性,同时又不想破坏样品的前提下,就需要使用一项新工具-XRD(X光绕射分析)进行分析。




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